MBRAUN开发的蒸镀系统，具备丰富的可选配置和定制方案，适用于各种薄膜蒸镀应用。MBRAUN的镀膜系统可集成安装多种主流蒸镀技术，如金属热蒸发，温控式热蒸发（如有机材料蒸发），多穴电子束蒸发，射频、直流或脉冲直流磁控溅射以及反应射频磁控溅射等。
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可集成MBRAUN手套箱(由过渡舱实现连接)
l 可处理50 x 50 mm大小的晶圆基板
l 紧凑型设计
l 低成本、经济型方案
l 交货快
l 安装简单、方便
l 易于工艺改造和提升
PROvap
l 集成手套箱
l 紧凑型设计
l 经济型解决方案
l 配置简单
l 多源共蒸
l 一致性标准偏差在+/-3 %区间 (几何式设计可缩小至+/-1 %)
l 两种型号可选: PROvap 4G 和 PROvap 5G
l 多可实现8源共蒸
l PROvap 4G可用于大小100x100 mm或直径100 mm (4英寸)的基板
l PROvap 5G可用于大小150x150 mm 或直径150 mm (6英寸)的基板
UNIvap
l 可单独使用
l 紧凑型设计
l 经济型解决方案
l 多源共蒸
l 一致性标准偏差在+/-3 %区间 (几何式设计可缩小至+/-1 %)
l 两种型号可选: UNIvap 4S 和 UNIvap 5S
l 多可实现8源共蒸
l UNIvap 4S可用于大小100x100 mm或直径100 mm (4英寸)的基板
l UNIvap 5S可用于大小150x150 mm 或直径150 mm (6英寸)的基板
OPTIvap
l 模块化设计
l 可单独使用(S)或集成于手套箱(G)
l 不同的模块之间可实现自由组合
l 多基板&多掩模工艺
l 一致性标准偏差在+/-3 %区间(几何式设计可缩小至+/-1 %)
l OPTIvap 4可用于大小150x150 mm或直径150 mm (6英寸)的基板
l OPTIvap 6可用于大小200x200 mm 或直径280 mm (8英寸)的基板
应用：
l 复杂的多层镀膜设备(用于OLED,OPV)
l 光学镀膜
l 光伏、半导体行业
MINIPEROvap
小型PVD腔室，专门用于钙钛矿蒸镀
l 可集成于MBRAUN 手套箱(由过渡舱实现连接)
l 紧凑型设计
l 可用于50x50 mm大小的基板
l 可实现多源共蒸(4个蒸发源)
l 膜厚一致性标准偏差在+/-5%区间
l 经济型方案
l 交货快
l 有利于工艺改进和提升
PEROvap
专门用于钙钛矿蒸镀
l 研发型理想方案
l 专业的系统设计
l 前驱体专用蒸发源
l 低温环境下可保持高度稳定性
l 标准化工艺流程
l 高真空环境
l 无交叉污染
l 可实现重复操作
l 可用于多种材料处理
l 设备使用寿命较长
